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OTF-1200X-S-HPCVD 1200℃坩堝可移動型管式爐

應(yīng)用范圍：OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內(nèi)移動（靠步進電機控制）的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設(shè)備最高工作溫度為1200℃。

產(chǎn)品型號：OTF-1200X-S-HPCVD

上架時間：2019-07-17

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OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內(nèi)移動（靠步進電機控制）的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設(shè)備最高工作溫度為1200℃。

性能指標(biāo)和基本配置
高溫爐部分	● 爐體設(shè)計為開啟式，以便于更換爐管 ● 工作電源：208 - 240 VAC, 50/60Hz ● 最大功率為：2KW ● 最高工作溫度：1200℃（<1hr) ● 連續(xù)工作溫度：1100℃ ● 加熱區(qū)長度：200mm ● 爐管：高純石英管，尺寸50mm?O.D?x?44mm?I.D?x?450mm?L)
溫度控制系統(tǒng)	● 采用PID30段程序化控溫，其控溫精度為+/-1℃ ● 設(shè)有過熱和斷偶保護 ● 熱電偶采用K型熱電偶
真空密封	● 采用KF結(jié)構(gòu)密封法蘭，硅膠密封圈密封 ● 法蘭上安裝有一機械壓力表 ● 右端法蘭與一個真空不銹鋼波紋管連接（不銹鋼波紋管最大伸縮幅度為150mm) ● 真空度：10-2Torr(用機械泵抽） 10-5Torr(用分子泵抽）
坩堝移動機構(gòu)&PLC控制	● 一個直徑為1/4＂的歐米伽鎧裝熱電偶（K型），通過法蘭伸入到爐管中，并可隨坩堝移動，可實時監(jiān)測樣品的實際溫度。 ● 通過步進電機移動爐管內(nèi)的坩堝（樣品臺），最大行程為100mm，移動精度為1mm ● 通過觸摸屏設(shè)定坩堝一定的距離和目標(biāo)位置，坩堝移動速度為180mm/min(更精確的移動速度，可與本公司聯(lián)系定制，需額外收費） ● 可觀察下圖，了解坩堝與熱電偶的安裝方法
最大加熱速率和冷卻速率	可通過移動樣品到已預(yù)加熱的爐體中來得到最大的加熱速率，也可將樣品迅速移除高溫的爐體，來得到最大的降溫速率
最大加熱速率和冷卻速率	最大加熱速率: 最大降溫速率 10℃/sec (150℃ - 250℃); 10℃/sec (950℃ - 900℃); 7℃/sec (250℃ - 350℃); 7℃/sec (900℃ - 850℃); 4℃/sec (350℃ - 500℃); 4℃/sec (850℃ - 750℃); 3℃/sec (500℃ - 550℃); 2℃/sec (750℃ - 600℃); 2℃/sec (550℃ - 650℃); 1.5℃/sec (600℃ - 500℃); 1℃/sec (650℃ - 800℃); 1℃/sec (500℃ - 400℃); 0.5℃/sec (800℃ - 1000℃) 0.5℃/sec (400℃ - 300℃);
可選配件	● 可選購手動擋板閥 ● 防腐型數(shù)顯真空計 ● 快速連接法蘭，以方便于放置樣品 ● 多路質(zhì)量流量計控制的混氣系統(tǒng)，用于CVD和DVD實驗
石英氣體噴嘴	可選配石英氣體噴嘴，將反應(yīng)氣體與緩沖清洗氣體分開通入，可有效減少副反應(yīng)發(fā)生，實現(xiàn)高端CVD工藝，如局部控制前體濃度化學(xué)氣相沉積工藝（ALC CVD）或單晶二維材料薄膜的生長工藝等。
尺寸
應(yīng)用	● 此款設(shè)備可用于多種實驗，以下列出了幾種實驗方法 RTE（快速熱蒸發(fā)）：蒸發(fā)料放在坩堝中，放入到爐體中心，基片放在樣品臺上，樣品臺與熱電偶相連接，然后將樣品臺移動到理想的位置（此位置溫度是實驗所需要的溫度） HPCVD（混合物理化學(xué)沉積）：與RTE相似，但需配混氣系統(tǒng)，對反應(yīng)氣體混合并控制流量，同時也需設(shè)定蒸發(fā)料的位置（確定蒸發(fā)料的蒸發(fā)溫度）水平布里奇曼（Bridgman）法來長晶體：將樣品和籽晶放入到坩堝中，并將坩堝放入到爐體中心位置，然后設(shè)定坩堝移動速度，慢慢移動坩堝。
應(yīng)用注意事項	● 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa ● 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全。 ● 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng)，保持在常壓狀態(tài)。 ● 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊。 ● 石英管的長時間使用溫度＜1100℃ ● 對于樣品加熱的實驗，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）
質(zhì)量認(rèn)證	所有電器元件（>24V）都通過UL?/?MET?/?CSA認(rèn)證/ CE認(rèn)證 ,若客戶出認(rèn)證費用，本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證
保修期	一年保修，終身技術(shù)支持。特別提示： 1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。點擊查看售后服務(wù)承諾書。
免責(zé)聲明	本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容（包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等）僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r和網(wǎng)站不可預(yù)知的BUG造成數(shù)據(jù)與實物的偏差。如果您對參數(shù)有異議，或者想了解產(chǎn)品詳細(xì)信息，請與本公司銷售人員聯(lián)系。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾，科晶公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知，請您見諒。

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OTF-1200X-S-HPCVD 坩堝（樣品臺）可移動管式爐（英文版操作視頻）-1

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