應(yīng)用范圍:鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作,廣泛應(yīng)用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域。
上架時間:2020-04-16
| 功能特點 |
|---|
| 技術(shù)參數(shù) | |
|---|---|
| 鍍膜室 | 不銹鋼材料,采用方形前后開門結(jié)構(gòu),內(nèi)帶有防污板,腔室尺寸約為600mm×450mm×450mm |
| 真空排氣系統(tǒng) | 采用分子泵+機械泵系統(tǒng) |
| 真空度 | 鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa |
| 系統(tǒng)漏率 | ≤1×10-7Pa |
| 蒸發(fā)源 | 安裝在真空室的下底上;有機蒸發(fā)源4個、容積5ml,2臺蒸發(fā)電源,可測溫、控溫,加熱溫度400℃,功率0.5KW;無機蒸發(fā)源4套、容積5ml,2臺蒸發(fā)電源,加熱電流300A,功率3.2KW;蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開啟 |
| 樣品架 | 安裝在真空室的上蓋上,可放置?120mm的樣品、載玻片,旋轉(zhuǎn)速度0-30rpm |
| 加熱溫度 | RT-180℃,測溫、控溫 |
| 膜厚控制儀 | 石英晶振膜厚控制儀,膜厚測量范圍0-999999? |
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