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CHI760F 電化學工作站

應(yīng)用范圍: CHI760F 電化學工作站內(nèi)含快速數(shù)字信號發(fā)生器,用于高頻交流阻抗測量的直接數(shù)字信號合成器,雙通道高速數(shù)據(jù)采集系統(tǒng),電位電流信號濾波器,多級信號增益,iR 降補償電路,以及電位儀、電流儀??芍苯佑糜诔㈦姌O上的穩(wěn)態(tài)電流測量。

產(chǎn)品型號:CHI760F

設(shè)備尺寸:約W 370mm*D 230mm*H 120mm(以實物為準)

重量:約4kg(以實物為準)

上架時間:2025-09-09

版本號:V1.0

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       CHI760F 電化學工作站內(nèi)含快速數(shù)字信號發(fā)生器,用于高頻交流阻抗測量的直接數(shù)字信號合成器,雙通道高速數(shù)據(jù)采集系統(tǒng),電位電流信號濾波器,多級信號增益,iR 降補償電路,以及電位儀、電流儀。可直接用于超微電極上的穩(wěn)態(tài)電流測量。
  功能特點
  • 設(shè)備數(shù)據(jù)采集采用兩個同步16 位分辨率,雙通道同時采樣的最高速率為2.5MHz;
  • 可拓展掃描電化學顯微鏡功能;
  • 循環(huán)伏安法的掃描速度為1000V/s 時,電位增量0.1mV。交流阻抗的測量頻率可達3MHz,交流伏安法的頻率可達10KHz。
  技術(shù)參數(shù)
恒電位儀
結(jié)構(gòu) 零阻電流計,
2,3,4 電極結(jié)構(gòu),
浮動地線或?qū)嵉?
最大電位范圍 ±10V
最大電流 ±250mA 連續(xù)(兩個通道電流之和),±350mA 峰值
槽壓 ±13V
電位儀上升時間 小于1μs,通常0.8μs
恒電位儀帶寬 1MHz(-3 分貝)
所加電位范圍 ±10mV,±50mV,±100mV,±650mV,±3.276V,±6.553V,±10V
所加電位分辨 電位范圍的0.0015%
所加電位準確度 ±1mV,±滿量程的0.01%
所加電位噪聲 <10μV 均方根植
測量電流范圍 ±10pA 至±0.25A,12 量程
電流測量準確度 電流靈敏度大于等于1e-6A/V 時為0.2%,其他量程1%
輸入偏置電流 <20pA
恒電流儀
恒電流范圍 3nA–250mA
所加電流準確度 ±20pA,電流>3e-7A 時±0.2%,其他范圍為1%
所加電流分辨率 電流范圍的0.03%
測量電位范圍 ±0.025V,±0.1V,±0.25V,±1V,±2.5V,±10V
測量電位分辨率 測量范圍的0.0015%
電位計
參比電極輸入阻抗 1e12 歐姆
參比電極輸入帶寬 10MHz
參比電極輸入偏置電流 25℃時,<=10pA
波形發(fā)生和數(shù)據(jù)獲得系統(tǒng)
快速信號發(fā)生更新速率 10MHz,16 位分辨
快速數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) 16 位分辨ADC,雙通道同步采樣,采樣速率2.5M 赫茲
外部信號記錄通道最高采樣速率 1MHz
實驗參數(shù)
CV 和LSV 掃描速度 0.000001V/s 至10000V/s,雙通道同步掃描
掃描時的電位增量 當掃速為1000V/s 時,0.1mV
CA 和CC 的脈沖寬度 0.0001 至1000sec
CA 的最小采樣間隔 0.4μs,雙通道同步
CC 的最小采樣間隔 0.4μs
積分器 CC 模擬積分器
DPV 和NPV 的脈沖寬度 0.001 至10sec
SWV 頻率 1 至100kHz
FTACV 頻率范圍 0.1 至50Hz,可同時獲取基波,二次諧波,三次諧波,四次諧波,五次諧波,六次諧波的ACV 數(shù)據(jù)
交流阻抗 0.00001 至3MHz
交流阻抗波形幅度 0.00001V 至0.7V 均方根值
其他參數(shù)
iR 降補償方式 自動或手動
電流測量偏置 滿量程,16 位分辨,0.003%準確度
電位測量偏置 ±10V,16 位分辨,0.003%準確度
電位輸入 外部電位輸入
模擬輸出 可實現(xiàn)電位和電流的模擬輸出
可控電位濾波器的截止頻率 1.5MHz,150KHz,15KHz,1.5KHz,150Hz,15Hz,1.5Hz,0.15Hz
可控信號濾波器的截止頻率 1.5MHz,150KHz,15KHz,1.5KHz,150Hz,15Hz,1.5Hz,0.15Hz
旋轉(zhuǎn)電極控制電壓輸出 0-10V 對用于0-10000rpm 的轉(zhuǎn)速,16 位分辨,0.003%準確度,需要某些旋轉(zhuǎn)電極裝置才能工作
控制數(shù)字輸入輸出線 通過宏命令可以控制數(shù)字輸入輸出線
通訊方式 USB 口數(shù)據(jù)通訊
電解池控制 通氮,攪拌,敲擊(需要特殊電解池系統(tǒng))
CV 數(shù)字模擬器和擬合器 用戶定義反應(yīng)機理
交流阻抗模擬器和擬合器
最大數(shù)據(jù)長度 256K-16384K 點可選
可測量功能 循環(huán)伏安法(CV),線性掃描伏安法(LSV),階梯波伏安法(SCV),Tafel 圖(TAFEL),計時電流法(CA),計時電量法(CC),差分脈沖伏安法(DPV),常規(guī)脈沖伏安法(NPV),差分常規(guī)脈沖伏安法(DNPV),方波伏安法(SWV),交流(含相敏)伏安法(ACV),二次諧波交流(相敏)伏安法(SHACV),傅里葉變換交流伏安法(FTACV),電流-時間曲線(i-t),差分脈沖電流檢測(DPA),雙差分脈沖電流檢測(DDPA),三脈沖電流檢測(TPA) ,積分脈沖電流檢測(IPAD),控制電位電解庫侖法(BE),流體力學調(diào)制伏安法(HMV),掃描-階躍混合方法(SSF),多電位階躍方法(STEP),恒電位間歇滴定法(PITT),交流阻抗測量(IMP),交流阻抗-時間測量(IMPT),交流阻抗-電位測量(IMPE),計時電位法(CP),電流掃描計時電位法(CPCR),多電流階躍法(ISTEP),恒電流間歇滴定法(GITT),電位溶出分析(PSA),電化學噪聲測量(ECN),開路電壓-時間曲線(OCPT),恒電流儀,RDE 控制(0-10V 輸出),任意反應(yīng)機理CV 模擬器,交流阻抗數(shù)字模擬器和擬合程序
儀器尺寸 約W 370mm*D 230mm*H 120mm(以實物為準)
重量 約4kg(以實物為準)
暫無內(nèi)容
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