GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據二極（DC）直流濺射原理（直流二極濺射鍍膜是指在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理氣相沉積（PVD）制備薄膜技術的一種。）設計而成的簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。設備特別之處是在一個真空室內安裝了三個靶，旋轉樣品臺可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。該設備體積小，節(jié)省實驗室空間，操作簡單，尤其適合實驗室使用。

• 設有真空表、濺射電流表，可實時監(jiān)控工作狀態(tài)；
• 通過調節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥，控制真空室壓強、電離電流及選擇所需要的電離氣體，以獲得好的鍍膜效果；
• 鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設計，可保證長期使用不出現玻璃鐘罩崩邊現象；
• 陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經久耐用；
• 根據電場中氣體電離特性，采用大容量濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。