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HVMSS-SPC-1-LD 1英寸高真空磁控濺射頭

應用范圍：HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭，可安裝直徑為1英寸的靶材?？膳c直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，以至于可以濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計，可提高鍍膜質(zhì)量。

產(chǎn)品型號：HVMSS-SPC-1-LD

上架時間：2019-09-02

重量：1.36kg

A^-A⁺

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HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭，可安裝直徑為1英寸的靶材?？膳c直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，以至于可以濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計，可提高鍍膜質(zhì)量。

性能指標和基本配置
特點	● 采用高質(zhì)量的不銹鋼和陶瓷材料制作 ● 采用電磁場的有元計算法來設(shè)計永磁體，以得到較高的磁場強度和均強場分布 ● 磁體表面涂有一層保護層，以防止冷卻水的腐蝕，延長其使用壽命 ● 標準的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配 ● 安裝是采用標準真空接頭，便于操作 ● 更換靶材較為簡單，無需調(diào)整濺射頭的高度 ● 配有一塊銅靶
濺射頭	● 濺射頭的直徑:46.3mm ● 所用靶的直徑:1.0 ± 0.02"(25.4mm) ● 靶材的最大厚度: 1/8" (3mm) ● 磁環(huán):NdFeB稀土永磁鐵 ● 桿的直徑: 3/4" O.D.
所需功率	● DC (最大) 250 W ● RF （最大）100 W
最大陰極濺射電流	3A
陰極濺射電流	200 - 1,000 V
可選壓力范圍	~1 mTorr 至1 Torr
濺射厚度均勻性圖	● 注意：此圖是采用磁控濺射得的到一個200nm的薄膜，所用靶材為1英寸的銅靶。薄膜是沉積在氧化的硅片上，實驗參數(shù)為： ● 功率：直流150W ● 真空環(huán)境：10mTorr(Ar) ● 靶材與基片的距離：75mm
水冷卻	● 所需水流量： 1/2 GPM ● 進水溫度：<20 ℃ ● 水管接頭：0.25" O.D快插頭
接頭	● 電路連接接頭：標準的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配 ● 本公司會贈送一高真空快速接頭 ● 此快速接頭的內(nèi)徑為0.75"，可將濺射頭安裝在真空腔體上，真空腔體上的安裝孔直徑為1英寸，真空腔體的壁厚不得大于1英寸
產(chǎn)品長度	14英寸（355.6mm)
產(chǎn)品重量	1.36kg
傾斜裝置	● 濺射頭相對于桿最大可傾斜+/- 45度 ● 傾斜裝置上有刻度線，可觀察到靶頭傾斜的角度
可選配件	● 循環(huán)水冷機，流量為16L / min ，水箱容積為6L ● 本公司可提供各種配件可與HVMSS-SPC-1-LD配套，讓客戶自己搭建磁控濺射儀
應用	在真空腔體中HVMSS-SPC-1-LD磁控濺射頭可制作各種薄膜，下面是一些應用： ● 薄膜涂覆 ● 半導體器件 ● 磁記錄介質(zhì) ● 超導薄膜 ● 量子計算器件 ● MEMS ● 生物傳感器 ● 納米技術(shù) ● 超晶格 ● 顆粒膜 ● 記憶合金 ● 組合薄膜沉積 ● 光學薄膜
保修期	一年保修，終身技術(shù)支持。點擊查看售后服務(wù)承諾書。

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